HDPE 辽阳石化聚乙烯L1060PX

熟化后的溶胶涂覆在导电玻璃基片上，经高温(500℃左右)煅烧，即得到纳米晶tio2薄膜。也可以使用tio2的醇溶液与商业ti02(p25，30nm)混合以后得到的糨糊来代替上面提到的溶胶。反应中为了防止颗粒团聚，通常采用化学表面改性的方法，如加有机螫合剂、表面活性剂、乳化剂等，以降低粉末表面能，增加胶粒问静电排斥，或产生空问位阻作用而使胶体稳定。该方法主要在于加入了一个水热熟化过程，由此控制产物的结晶和长大，继而控制半导体氧化物的颗粒尺寸和分布，以及薄膜的孔隙率，得到的tio2颗粒是锐钛矿型还是锐钛矿型与金红石型的混合物由反应条件(如煅烧温度)决定。局限性是它必须进行高温和高压处理，水热合成法需时较长。

在太阳能电池、显示等光电领域通常要求至少一面电极是透明导电薄膜，要求高透光率和高导电率。但有些特殊领域，如半透明太阳能电池或者全透明显示，要求上下电极都有透明要求。在防电磁干扰的场所，使用非透明的镍银金属复合涂层或者金属薄膜通常都具有良好电磁抗干扰能力，但既要高透光性又要强抗电磁干扰能力的窗口材料和窗口薄膜仍有很强应用领域，如仪表仪器窗口以及要求良好电磁屏蔽场场所的观察窗口等。高透光和高导电薄膜通常是相互制约和矛盾对立的，通常增加薄膜厚度可以提高薄膜导电能力，但会降低透光率。在太阳能电池中，增加透光性可提高电池光吸收，但薄膜方块电阻增加导致高的串联电阻，降低了电池效率。在发光显示如有机发光器件(OLED)中，高透光电极能提高OLED器件的光逸出，但高阻值电极需要更高驱动电压和导致更高能量耗散。在防电磁波干扰场所，低电阻薄膜有利于提高防电磁干扰能力，高阻值透明窗口将降低防电磁波干扰能力。实际应用中为了降低其负面影响，尽量减少高阻值透明薄膜覆盖面积，增加低阻值薄膜的覆盖面积，通常是一种可行办法。目前常用透明导电薄膜如IT0.FT0和ΑΖ0，氧化物-金属-氧化物导电薄膜如AZO | Ag | AZO,金属纳米结构基组成透明导电复合膜等在衬底上制备透明导电薄膜后，现有技术手段在后续应用中就很难根据需要灵活的进行图形化调整，这为后期应用带来不便和提高应用成本。

高透明性聚合物材料由于具有透明、柔韧、质轻、高耐冲击性等优点，已成为未来柔性光电封装基板材料的。聚酰亚胺薄膜具有优异的耐热稳定性，可满足光电器件加工过程中电极薄膜沉积和退火处理等高温制程的要求，因此发展高透明性聚酰亚胺材料成为研究的重点。但是传统的聚酰亚胺薄膜呈棕黄色，其可见光(波长400～700nm)透光率低下，对500nm处透光率不到40％，到400nm附近时被100％吸收，严重限制了其在光电领域应用。

聚酰亚胺带色是由于在大分子主链中交替的二酐残基羰基中的吸电子作用和二胺残基的给电子作用产生的分子内与分子间的电荷转移络合物(ctc)所引起的。给电子能力越强的二胺与吸电子能力越强的二酐聚合所形成的聚酰亚胺膜材的颜色就会越深。目前增加pi透明性的原则是避免或减少共轭单元，减少分子内或分子间的传荷作用，常用方法有：(1)引入含氟基团；(2)引入体积较大的取代基；(3)引入脂肪尤其是脂环结构单元；(4)采用能使主链弯曲的单体；(5)导入不对称结构；(6)减少共轭双键结构等。