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独山子聚丙烯DY-0723F三元共聚CPP薄膜 2022已更新(当日/专访)

独山子聚丙烯DY-0723F三元共聚CPP薄膜

高折射率薄膜9的材料为tio2,折射率在2.0~2.2之间,高折射率薄膜9的厚度为0.1444um;低折射率薄膜10的材料为sio2,其折射率为1.5,低折射率薄膜10的厚度为0.2243um。

在玻璃基板1上通过涂布机台涂布一层柔性衬底2,厚度为2um~4um,然后在柔性衬底2上形成金属氧化物tft驱动器件3和oled发光器件4;2)在步骤1)的基础上沉积无机薄膜层5,厚度为0.4um~0.8um;然后再涂布功能层6,厚度为2um~4um;3)在步骤2)的基础上沉积第二无机薄膜层7,第二无机薄膜层7为整面性覆盖器件,厚度为0.4um~0.8um;然后再涂布第二功能层8,厚度为2um~4um;然后再沉积增透膜11,其中先沉积高折射率薄膜9,再沉积低折射率薄膜10,然后沉积高折射率薄膜9,后沉积低折射率薄膜10,高折射率薄膜9厚度为0.1um~0.2um,低折射率薄膜10厚度为0.1um~0.2um。

该结构的制作过程可分为三个步骤:步骤一:在玻璃基板1上通过涂布机台涂布一层柔性衬底2,柔性衬底2具备超强韧性,具有可弯折和可折叠的特性,该柔性衬底2的材料不限于聚酰亚胺(pi)、对苯二甲酸乙二酯(pet)和聚对苯二甲酸丁二酯(pbt),优选为聚酰亚胺(pi),其厚度范围为2um~4um,优选为3um,然后在柔性衬底2上形成金属氧化物tft驱动器件3和oled发光器件4,其中金属氧化物tft器件不限于蚀刻阻挡型(esl)结构。


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