将含有对应所述金属氧化物薄膜的金属氧化物的一前驱盐类及促进剂、一溶剂的前驱盐类溶液涂布于基板上而形成金属氧化物的前驱物膜层之后，在将金属氧化物的前驱物膜层得以采用相对于现有技术的低温(<200℃)进行加热而制备金属氧化物薄膜。

金属氧化物薄膜的制备工艺的成膜效率较高，但是也存在设备及靶材昂贵、能耗较高、溅射离子对界面轰击产生缺陷(如靶材表面电荷堆积)等问题。

提供一金属氧化物的一前驱盐类；将所述前驱盐类与一促进剂、一溶剂混合均匀得到一前驱盐类溶液；将所述前驱盐类溶液涂布于一基板；去除所述基板上多余的所述前驱盐类溶液形成一前驱物膜层；以及以一烘烤温度对所述基板上的所述前驱物膜层进行一烘烤程序，所述烘烤温度为不超过200℃，以形成所述前驱盐类对应的所述金属氧化物薄膜。

将所述前驱盐类与一促进剂、一溶剂混合均匀得到一前驱盐类溶液10；s03：将所述前驱盐类溶液10涂布于一基板20；s04：去除所述基板上多余的所述前驱盐类溶液10形成一前驱物膜层；以及s05：以一烘烤温度对所述基板上的所述前驱物膜层进行一烘烤程序，所述烘烤温度为不超过200℃，以形成所述前驱盐类对应的所述金属氧化物薄膜。

首先，准备含有对应所述金属氧化物薄膜的金属氧化物的一前驱盐类及促进剂、一溶剂混合均匀得到前驱盐类溶液10，涂布于所述基板20上而形成金属氧化物的前驱物膜层。

配合狭缝式涂布机(siltcoater)制备金属氧化物薄膜，相比于现有的溶胶凝胶法(高温结晶)，可以实现在相对的低温(<200℃)制程下成膜并结晶，并应用在柔性平板显示器上。相比于物理气相沉积溅射法来说，本揭示制成的基板的界面缺陷更少，成膜的成本更低，制程更加简单。在相对的低温(<200℃)制程下，本揭示的制程也可以避免由于高温破坏靶材与周边冶具的结合、以及产生的高热会造成靶材与周边冶具的损坏的缺陷。

现有的铜掺杂氧化镍薄膜需要在400℃的高温下以溶胶凝胶法制备。然而根据本揭示的制备方法，使用镍的硝酸盐类前驱物(ni(no3)2˙6h2o)以及铜的硝酸盐类前驱物(cu(no3)2˙3h2o)，加入乙酰丙酮作为促进剂，在溶剂中进行反应，此反应在150℃的一反应温度下即可发生。

基板的形状、结构、大小等并无特别限制，可根据目的而适当选择。基板的结构既可为单层结构，亦可为积层结构。作为构成基板的材料，并无特别限定，可使用包含如下材料的基板：玻璃(glass)、钇稳定氧化锆(yttria-stabilizedzirconia，ysz)等无机材料、树脂、树脂复合材料等。其中，就具有可挠性的目的而言，较佳为树脂基板或包含树脂复合材料的基板(树脂复合材料基板)。

前驱盐类溶液较佳为除含有对应所述金属氧化物薄膜的金属氧化物的一前驱盐类以外，亦含有硝酸根离子，其中硝酸盐类前驱物中的硝酸根离子(no3-)作为氧化剂，更佳为至少使硝酸盐类前驱物溶解于所述溶剂中而得到的前驱盐类溶液。

成重量达到高峰，代表在150℃的低温下可以实现将镍的硝酸盐类前驱物以及铜的硝酸盐类前驱物进行加热以制备铜掺杂氧化镍薄膜。相对于现有的溶胶凝胶法需要在400℃的高温进行反应，本揭示加入了乙酰丙酮作为促进剂实现了降低金属盐类反应所需要的能级的效果。而图5则是本揭示实施例中的金属氧化物薄膜在电子显微镜下的剖面示意图，此实施例中的铜掺杂氧化镍薄膜a应用于太阳能电池薄膜。

将含锌的硝酸盐类前驱物61、促进剂以及含铟的硝酸盐类前驱物均匀混合后涂布于基板20上形成铟锌氧化物(izo)薄膜；或将含镓的硝酸盐类前驱物62、促进剂以及含铟的硝酸盐类前驱物混合后涂布于基板20上形成铟镓氧化物(igo)薄膜。其中含铟的硝酸盐类前驱物中的硝酸根离子(no3-)作为氧化剂，通过反应形成金属原子-氧原子-金属原子的结构，如izo或igo的构成。上述金属的前驱物混合后自身产生的热能δ，配合加热至100℃的一反应温度以及加热时间约10分钟，进而合成金属氧化物膜。

通过金属氧化物前驱物之间的自燃反应所提供的热能，以及加入了乙酰丙酮作为促进剂，实现了降低金属盐类反应所需要的能级的效果。

以金属氧化物薄膜的对应金属盐类(m(no3)x·nh2o)为主要原料，加入促进剂、溶剂制备而得一金属盐类混合溶液。将所述金属盐类混合溶液涂布/喷涂于基板上可得到混合均一的前驱物膜层，经过烘烤程序(低于200℃)形成对应的金属氧化物(moy)薄膜。本揭示的烘烤温度低，适合柔性产品。简化金属氧化物(ito,igzo,nio2,al2o3)的成膜工艺。降低靶材界面产生缺陷的可能性。此外，可通过调控涂布/喷涂的速度来控制前驱物膜层的一膜厚，并通过控制金属盐类混合溶液中对应金属盐类的固含量来控制前驱物膜层的膜性质。改进了现有的物理气相沉积制备法中温度过高会造成靶材与周边冶具的损坏的缺陷。