ABS 吉林石化ABS0215H

由于这两层薄膜结构的组成成分不同，就需要使用不同的蚀刻液分别对这两层进行蚀刻。常常先采用铜蚀刻液蚀刻铜层，在铜层蚀刻完毕后再换用另外一种ito蚀刻液蚀刻ito层，这就需要两步法进行蚀刻。两步蚀刻法需要设有前蚀刻液的去除、蚀刻界面的清洁以及后蚀刻液的添加等工序，因此，蚀刻步骤较为繁琐，蚀刻时间较长，并且用于清洁蚀刻界面的清洁液的用量也较大。常用的用于蚀刻铜层的铜蚀刻液的主要成分为双氧水。双氧水本身的活性较强，稳定性较弱，易于分解，存放周期短，特别是在配制成铜蚀刻液后，铜蚀刻液易变质，不宜长期存放，需要随配随用，频繁的配制会增加人力和成本的消耗。另外，随着蚀刻过程的进行，铜层中的铜单质以铜离子的形式进入铜蚀刻液中，造成铜蚀刻液中的铜离子浓度逐渐富集，这会导致双氧水的分解速率加快，从而导致蚀刻的过程不太稳定，会影响蚀刻界面的性质并且影响蚀刻坡度角(taperangle)。提供一种薄膜蚀刻液、蚀刻方法及其应用。本技术的一些实施例能够解决在对两层薄膜结构进行蚀刻时需要采用不同的蚀刻液进行二步法蚀刻的问题。本技术的另一些实施例能够解决在对铜层等金属层进行蚀刻时随着蚀刻过程的进行蚀刻液中的双氧水成分会加速分解的问题。本技术的其它一些实施例还能够解决上述任意技术问题的结合。一种对双层薄膜结构进行蚀刻的方法。其中，双层薄膜结构包括氧化铟锡薄膜以及沉积于氧化铟锡薄膜的上表面的金属薄膜，金属薄膜的材料为铜单质、铝单质或者铜铝合金。将压电薄膜里的分子沿着电场分布整齐地排列，达到使压电薄膜呈现压电特性的效果。当压电薄膜开始呈现压电效应后，在压电薄膜的表面上所累积的电荷持续提供高电场的环境，会造成压电薄膜伸缩，使得压电薄膜的表面的平整度难以维持。另外，压电薄膜的伸缩导致压电薄膜产生高低起伏，如此使得压电薄膜表面越接近电极，而提高了压电薄膜被击穿的机率。由于压电薄膜的表面不平整与被击穿为极化过程常发生的瑕疵且属于不可修复的瑕疵，因此必须加以预防才能降低这类瑕疵发生的机率。提供一种压电薄膜的极化方法，其在压电薄膜极化前先进行除泡处理，以去除压电薄膜与导电基材之间的气泡。借此，极化压电薄膜时，可提高压电薄膜的表面的平整性，并可避免压电薄膜被击穿，还可提高压电薄膜的极化均匀性，进而可大幅提升压电薄膜的极化品质与良率。提供一种压电薄膜的极化方法，其可在压电薄膜极化期间及/或极化后，再对压电薄膜进行除泡处理，借此可有效维持压电薄膜的表面的平整度，进一步提升压电薄膜的极化品质，有利于极化后的压电薄膜的后续制程的进行与应用。