PP 燕山石化聚丙烯K7005

SiO薄膜的湿式蚀刻速率比(wetetchrateratio；WER)为3。然而，小于2的湿式蚀刻速率比大体上是间隙填充应用的目标。自三硅基胺工艺获得的原沉积的薄膜包含作为主要组分的硅及氮，其中氧作为微量组分。需要商业上可行并且显示出可流动性质及低湿式蚀刻速率比两者的新的沉积化学品。本发明的数个方面通过提供新颖的化学品解决了该问题，该化学品是经特别设计并且经佳化以利用沉积工艺。尤其需要用于沉积包含SiO及SiN的可流动薄膜的新的化学品。技术实现要素：本发明的一个方面关于沉积包含SiO或SiN的薄膜的方法，该方法包含：将基板表面暴露于硅氧烷或硅氮烷前驱物；将基板表面暴露于等离子体活化的共反应物以提供SiON中间薄膜；紫外线固化SiON中间薄膜以提供固化的中间薄膜；和退火固化的中间薄膜以提供包含SiO或SiN的薄膜。

将基板表面暴露于包含二硅氧烷的硅氧烷前驱物；将基板表面暴露于远程等离子体活化的NH3以提供SiON中间薄膜；在臭氧存在下，紫外线固化SiON中间薄膜以提供固化的中间薄膜；和蒸汽退火固化的中间薄膜以提供包含SiO的薄膜。本发明的另一方面关于一种沉积包含SiN的薄膜的方法，该方法包含：将基板表面暴露于包含N,N'二硅基三硅氮烷的硅氮烷前驱物中；将基板表面暴露于远程等离子体活化的NH3和/或O2中以提供SiON中间薄膜；紫外线固化SiON中间薄膜以提供固化的中间薄膜；和NH3退火固化的中间薄膜以提供包含SiN的薄膜。附图说明以上简要概述的本发明的上述详述特征能够被具体理解的方式、以及本发明的更特定描述，可以通过参照实施方式获得，实施方式中的一些绘示于附图中。

根据本发明的一或多个实施方式沉积的薄膜与对比例薄膜的傅立叶变换红外光谱的比较；图4是根据本发明的一或多个实施方式沉积的薄膜的傅立叶变换红外光谱；图5是根据本发明的一或多个实施方式沉积的陈化十天之后的薄膜的傅立叶变换红外光谱；图6是根据本发明的一或多个实施方式沉积的蒸汽退火之后的薄膜的傅立叶变换红外光谱；图7是根据本发明的一或多个实施方式沉积的薄膜的湿蚀刻速率及收缩率的曲线图；图8A至图8D是根据本发明的一或多个实施方式在各种条件下沉积的薄膜的扫描式电子显微镜图像；图9是根据本发明的一或多个实施方式沉积的两个薄膜的傅立叶变换红外光谱；图10是根据本发明的一或多个实施方式沉积的薄膜与对比例薄膜的傅立叶变换红外光谱的比较；图11是根据本发明的一或多个实施方式沉积的薄膜与对比例薄膜的傅立叶变换红外光谱的比较；图12是原沉积的对比例薄膜与陈化四天之后的对比例薄膜的傅立叶变换红外光谱的比较；图13是根据本发明的一或多个实施方式沉积的薄膜在原沉积态与陈化四天之后的傅立叶变换红外光谱的比较；图14是根据本发明的一或多个实施方式沉积的薄膜的扫描式电子显微镜图像；图15A至图15C是示出了根据本发明的一或多个实施方式沉积的薄膜及对比例薄膜的沟槽内组成物的散点图；以及图16A至图16C是示出了根据本发明的一或多个实施方式沉积的薄膜及对比例薄膜的沟槽内组成物的散点图。具体实施方式在描述本发明的数个示例性实施方式之前，应理解，本发明并不限制于以下描述中所列出的构造或处理步骤细节。本发明能够具有其他实施方式并且能够以各种方式被实施或被执行。图示的结构意欲包含具有标明化学式的所有这些络合物及配位体。已经惊人地发现，能够在可流动化学气相沉积(flowablechemicalvapor；FCVD)工艺中使用硅氧烷或硅氮烷前驱物获得高品质可流动薄膜。这些前驱物与自等离子体生成的自由基形式的共反应物一起使用。薄膜具有低湿式蚀刻速率比及低收缩率的有利效应。给定二硅氧烷极高反应性的情况下，使用二硅氧烷的实施方式的结果尤其令人惊讶。由于这些薄膜的优越的特征，薄膜特别适合于间隙填充应用。