独山子聚丙烯DY-0723F三元共聚CPP薄膜 2022已更新（当日/专访）

独山子聚丙烯DY-0723F三元共聚CPP薄膜

高折射率薄膜9的材料为tio2，折射率在2.0~2.2之间，高折射率薄膜9的厚度为0.1444um；低折射率薄膜10的材料为sio2，其折射率为1.5，低折射率薄膜10的厚度为0.2243um。

在玻璃基板1上通过涂布机台涂布一层柔性衬底2，厚度为2um~4um，然后在柔性衬底2上形成金属氧化物tft驱动器件3和oled发光器件4；2）在步骤1）的基础上沉积无机薄膜层5，厚度为0.4um~0.8um；然后再涂布功能层6，厚度为2um~4um；3）在步骤2）的基础上沉积第二无机薄膜层7，第二无机薄膜层7为整面性覆盖器件，厚度为0.4um~0.8um；然后再涂布第二功能层8，厚度为2um~4um；然后再沉积增透膜11，其中先沉积高折射率薄膜9，再沉积低折射率薄膜10，然后沉积高折射率薄膜9，后沉积低折射率薄膜10，高折射率薄膜9厚度为0.1um~0.2um，低折射率薄膜10厚度为0.1um~0.2um。

该结构的制作过程可分为三个步骤：步骤一：在玻璃基板1上通过涂布机台涂布一层柔性衬底2，柔性衬底2具备超强韧性，具有可弯折和可折叠的特性，该柔性衬底2的材料不限于聚酰亚胺（pi）、对苯二甲酸乙二酯（pet）和聚对苯二甲酸丁二酯（pbt），优选为聚酰亚胺（pi），其厚度范围为2um~4um，优选为3um，然后在柔性衬底2上形成金属氧化物tft驱动器件3和oled发光器件4，其中金属氧化物tft器件不限于蚀刻阻挡型（esl）结构。