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目前基于纳米银线的透明导电薄膜已有多项专利申请,但实际图形化透明导电薄膜工艺仍沿袭ITO减成法工艺,先在基材上满版涂布、干燥得到透明导电膜,然后经过掩膜、曝光、显影、蚀刻、水洗等步骤,终制得图形化透明导电膜。由于过程复杂、良率低、成本高昂,所得终的导电薄膜的性能也有待提高,因此极大地限制了纳米银线替代ITO的进程。目前主流的印刷方式有凹版印刷、凸版印刷、平版印刷、丝网印刷等。丝印即是指丝网印刷,印刷时通过刮板的挤压,使得油墨通过图文部分转移到承印物上,丝网印刷设备简单、操作方便、印刷、制版简易且成本低廉、柔性或刚性基材均可以印刷。中国专利申请201110058431.X公开了图形化的柔性透明导电薄膜及其制法,该发明提出了基材压印,然后刮涂导电墨水等技术实现制备透明导电膜,但该技术不适合刚性基材,且刮涂过程非压印部分容易出现墨水残留。中国专利申请201510096067.4公开了一种透明导电油墨、其制备方法及透明导电膜的生产方法。该方法也是通过丝网印刷后进行光固化所得,但由于树脂含量高、油墨固含量高(超过60%),且按照目前网版厚度进行丝印印刷获得的膜层较厚,终导致方阻偏大、透光率偏低、雾度偏高。中国专利申请201510526785.0公开了一种透明导电纳米银线油墨及透明导电膜的制备方法,通过涂布机直接在基材上涂布纳米银涂布液,无法实现图形化。该透明导电膜存在透光率偏低、雾度偏高的特点,且透明导电层使用涂布工艺,无法图形化。图形化透明导电薄膜的意义在于以往ITO生产厂商只能提供满版导电的薄膜的,下游客户需自行蚀刻出想要的图案。而跳出该传统框架,让客户定制图案,并印制相对应透明导电薄膜,可省去生产加工的掩膜、曝光、显影、蚀刻、水洗等环节,不仅环保节约、高效,且可大限度保证其稳定性。因此开发通过简便、高效的丝网印刷工艺实现图形化透明导电薄膜的生产制备方法,以及性能优异的透明导电薄膜就显得非常迫切和重要。技术实现要素:本发明的目的提供用一种光学透过率高、雾度低、表面方阻低的透明导电薄膜。本发明的另一目的提供该透明导电薄膜的制备方法。