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为了提高衬底与透明导电薄膜附着力，衬底表面可通过等离子体处理、硅烷化学修饰、化学清洗粗化以及加衬底温度等提高与透明导电薄膜附着力。如采用磁控溅射沉积透明导电层、中间层以及导电薄膜层，在衬底上依次溅射透明导电薄膜层、中间层和导电薄膜层。

薄膜缠绕基座3上设置有收膜模组4、缠绕平台5、回转驱动模组6及叠片下压模组7，所述收膜模组4及所述叠片

下压模组7均与所述缠绕平台5相配合，所述回转驱动模组6上配合设置有回转体8及薄膜放置件9，所述回转体8中开有

回转腔10，所述收膜模组4及所述缠绕平台5均位于所述回转腔10的中部，所述回转腔10的侧端开有与所述薄膜放置件

9相配合的薄膜进口11。相对于传统技术存在缠膜力度不均匀、叠片位移等不良状况，在本实用新型实施例中，所述

薄膜缠绕模组2配置于对叠片进行薄膜缠绕，使用时，所述薄膜放置件9的薄膜通过所述薄膜进口11放置在所述收膜模

组4上，将叠片放置在所述缠绕平台5上，进一步使得所述叠片下压模组7下压在叠片的极耳上，进一步所述回转驱动

模组6带动所述回转体8进行旋转，使得所述薄膜放置件9绕着所述缠绕平台5的叠片进行旋转，使得薄膜缠绕在叠片上

缠绕到后一圈的过程中，所述收膜模组4扯断薄膜后进一步完成缠绕，所述薄膜缠绕模组2的自动设计使得本实用新

型能够提高生产效率，降低生产成本，使得本实用新型具有使用方便及提高生产效率的优点。

透明导电薄膜的制备方法，真空热蒸发镀膜、磁空溅射沉积、化学气相沉积(CVD)、溶液法旋涂、印刷、刮图成膜等，得到可揭式任意图形化的透明导电薄膜。

本发明制备方法包括如下具体步骤:选用高透明玻璃、先用清洁工艺把玻璃表面清晰干净，接着用NaOH溶液或者HF溶液对玻璃进行表面粗化和羟基化，然后烘干。把准备好的玻璃放入真空热蒸发系统抽真空，接着蒸度TiCr或者NiCr合金透明导电薄膜，然后蒸发LiF薄膜和Ag层。

金属或金属合金薄膜、透明导电氧化物以及中间层可通过磁控溅射、真空热蒸发、电子束蒸发和激光沉积等方式制备，也可用打印、印刷和旋涂等方式制备。如用热蒸发制备透明导电薄膜，先在衬底上沉积透明导电薄膜、接着沉积中间层和导电薄膜层。