HDPE 大庆石化聚乙烯2400

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一种钙钛矿薄膜的制备方法，解决当前钙钛矿薄膜制备工艺制备的钙钛矿薄膜的粒径不均、制备速度慢、可重复性低等问题，并由本发明的制备方法进一步提高钙钛矿薄膜的致密度和薄膜的均匀性，从而提高终钙钛矿太阳能电池的光电转换效率。本发明还包括相应的钙钛矿太阳能电池。塑料薄膜要么添加有一些有毒的有机抗菌剂，要么采用成本较高的抗菌材料来制取包装袋，要么就是力学性能较差，固存在一定改进空间。

提供一种抗菌包装袋用薄膜，该种薄膜生产成本较低，且无毒便捷，能够用于制作食品包装袋。本发明的上述发明目的是通过以下技术方案得以实现的，一种抗菌包装袋用薄膜，由以下质量份的各组分混合制备而得：低密度聚乙烯10-15份；高密度聚乙烯35-45份；马来酸酐接枝聚乙烯5-10份；热塑性聚氨酯弹性橡胶10-18份；填料3-6份；纳米氧化锌-壳聚糖复合抗菌剂8-12份。

了获得更高的光电转化效率，钙钛矿薄膜必需满足一定的形态方面的要求，包括：薄膜的致密度、针孔数量、晶粒的大小和晶粒的均匀性、薄膜均匀性等，致密度越好、针孔越少、晶粒较大、晶粒均匀性越好、薄膜均匀性越好，则钙钛矿太阳能电池的光电转化效率也越高，性能更加稳定。

在柔性amoled的制程过程中，柔性树脂基膜要能耐受300℃以上的高温，这个温度远高于常见光学薄膜(pet、pen、聚碳酸酯等)的使用温度，因此无色透明聚酰亚胺薄膜在学术领域和工程领域获得了广泛的关注。为改善聚酰亚胺树脂的透明性，通常可以引入脂环结构或含氟基团。脂环结构的引入往往会导致聚酰亚胺树脂的热稳定性降低，从而使所得聚酰亚胺树脂使用温度降低。

而pva薄膜材料以其优良的成膜性、粘结性、无毒性、良好的相容性和可生物降解性，受到了越来越多的研究学者的关注。此外，聚乙烯醇是一种良好的可生物降解材料，具有高度的结晶性、较强的力学性能和优异的成膜性能，且聚乙烯醇薄膜具有高氧气阻隔性能、无毒害和优异的生物降解性能，可应用于食品包装薄膜领域。

在太阳能电池、显示等光电领域通常要求至少一面电极是透明导电薄膜，要求高透光率和高导电率。但有些特殊领域，如半透明太阳能电池或者全透明显示，要求上下电极都有透明要求。在防电磁干扰的场所，使用非透明的镍银金属复合涂层或者金属薄膜通常都具有良好电磁抗干扰能力，但既要高透光性又要强抗电磁干扰能力的窗口材料和窗口薄膜仍有很强应用领域，如仪器窗口以及要求良好电磁屏蔽场场所的观察窗口等。高透光和高导电薄膜通常是相互制约和矛盾对立的，通常增加薄膜厚度可以提高薄膜导电能力，但会降低透光率。在太阳能电池中，增加透光性可提高电池光吸收，但薄膜方块电阻增加导致高的串联电阻，降低了电池效率。在发光显示如有机发光器件(OLED)中，高透光电极能提高OLED器件的光逸出，但高阻值电极需要更高驱动电压和导致更高能量耗散。在防电磁波干扰场所，低电阻薄膜有利于提高防电磁干扰能力，高阻值透明窗口将降低防电磁波干扰能力。
由于衬底与透明导电薄膜层之间的附着力明显大于透明导电薄膜层与导电薄膜层之间的附着力，因此，在剥离导电薄膜层时，透明导电薄膜层与衬底之间不发生剥离现象，从而形成任意图形化的透明导电薄膜。
通过在所述透明导电薄膜层与所述导电薄膜层之间引入中间层，从而来弱化所述透明导电薄膜层与所述导电薄膜层之间的附着力。优选地，所述中间层包括LiF、氯化纳、碳膜、有机小分子、聚合物材料、氧化钥、硅烷等。
超薄界面修饰层是通过采用对透明导电薄膜层的界面修饰方式而形成的，从而来弱化所述透明导电薄膜层与导电薄膜层之间的附着力。其中，对透明导电薄膜层的界面修饰为采用氮气、氧气、Ar、甲烷、乙炔、氢气、水汽等进行表面等离子处理，或者通入硅烷气体等方法，从而形成自组装超薄界面修饰层等，弱化所述透明导电薄膜层与导电薄膜层之间的附着力。
[通过在衬底表面进行化学或物理修饰以形成衬底界面修饰层，从而来加强所述衬底与透明导电薄膜层之间的附着力。其中，所述在衬底表面进行化学或物理修饰是包括在衬底表面沉积缓冲层、衬底表面粗化，通入气体进行表面等离子处理等方法，形成衬底界面修饰层。优选地，所述衬底界面修饰层为在衬底表面涂覆的功能性硅胶层。优选地，在衬底表面上涂覆功能性硅胶层，用氧气/氩气表面等离子处理或者用NaOH等碱溶液处理在衬底表面形成羟基。所述“功能性硅胶层”是指硅胶层里含有硅烷偶联剂，通过“功能性硅胶层”作用使透明导电薄膜与衬底通过共价键或者离子键连接；“硅烷偶联剂”是指含有烷氧基团的硅烷，典型的硅烷偶联剂如:甲基丙烯酰氧丙基三甲基硅烷，正硅酸乙脂，氨丙基三甲基硅烷和1，2_ 二(三乙氧基甲石圭烧基)乙烧等。
金属或金属合金薄膜、透明导电氧化物以及中间层可通过磁控溅射、真空热蒸发、电子束蒸发和激光沉积等方式制备，也可用打印、印刷和旋涂等方式制备。如用热蒸发制备透明导电薄膜，先在衬底上沉积透明导电薄膜、接着沉积中间层和导电薄膜层。为了提高衬底与透明导电薄膜附着力，衬底表面可通过等离子体处理、硅烷化学修饰、化学清洗粗化以及加衬底温度等提高与透明导电薄膜附着力。如采用磁控溅射沉积透明导电层、中间层以及导电薄膜层，在衬底上依次溅射透明导电薄膜层、中间层和导电薄膜层。衬底表面清洗、物理化学处理以及衬底温度和偏压等参数对提高衬底与透明导电薄膜附着