EVA18-3醋酸乙烯鞋底发泡运动制品

该基于溶液法的薄膜制备方法易于在大面积衬底上制备，可用于显示器制造等工业。对于介电体、半导体(例如薄膜晶体管等)以及导体薄膜的制备都尤为适用。

在本发明实施例中，对两衬底上涂布的湿膜进行热处理以促使溶剂的挥发和化学键的形成，从而得到高质量的干薄膜。

热处理包含但不限于烘焙，温度范围优选在20℃到1000℃之间，时间优选在10分钟到600分钟之间，可以采用一个热处理步骤，也可以采用多个热处理步骤加快湿膜干燥和形成致密的薄膜。

可以理解，在需要涂布第二甚至多层薄膜时，重复步骤s101-s105即可，并且每一层涂布的薄膜组分可以相同也可以不同，即通过调整前驱体溶液30的配置即可。

作为本发明一优选实施例，为了使前驱体溶液30更好地沉积在衬底上，在步骤s101之前，还可以包括步骤s100，对衬底和第二衬底进行清洁处理。

在本发明实施例中，衬底清洁的步是使用单一或者混合组分的清洁剂，例如酸或者碱清洗衬底；随后使用单一或者混合组分的去离子水、丙酮、乙醇或者其他有机溶剂对衬底进行超声清洗。以上步骤可进行一次或重复多次。之后用(压缩空气或氮气)吹干清洗剂和有机溶剂。后进行若干表面处理，例如氧气等离子体处理、臭氧处理以及紫外光辐射等，以进一步改善衬底表面 的润湿性。

对于玻璃衬底的清洗，可依次使用丙酮超声、异丙醇超声、去离子水超声、压缩空气或者氮气吹干。

为了使湿膜形成得更加均匀，在步骤s103之后，步骤s104之前还可以包括步骤s103b，于第二衬底背面施加适当压力，以排出多余的前驱体溶液和湿膜内的气泡。

当两衬底待涂布面完全重合后，需于第二片衬底背表面法线方向施加一压力以排出过剩的前驱体溶液30和存在于两衬底间的气泡，该压力优选在1n/m2到1000n/m2的范围内。

影响薄膜特性的主要工艺参数包括：前驱体溶液的组成、浓度和粘度，排除气泡时施加压力的大小以及分离衬底的速度，通过调节前驱体溶液的表面张力以及衬底的润湿性，优化以上参数就能够得到高质量薄膜。