韩国VA800EVA地垫雨衣瑜伽垫

该薄膜既具有优良的粘接性，又能同时满足薄膜的光学性能、抗粘连性和再加工性的要求。为解决上述技术问题，本发明采用如下技术方案一种光学聚酯薄膜，在双向拉伸的基膜的至少一面涂覆粘接改性层，所述粘接改性层由含有粘合剂和粒子的涂布液固化而得到，粒子占粘接改性层固体成分的5%以下，突出于粘接改性层表面的粒子的面积占粘接改性层表面积的I 20%，粘接改性层的厚度小于IOOnm0上述光学聚酯薄膜中，所述突出于粘接改性层表面的粒子的面积占粘接改性层表面积的5 15%。上述光学聚酯薄膜中，所述粒子占粘接改性层固体成分的3%以下。上述光学聚酯薄膜中，所述粘接改性层的厚度在30 90nm之间。上述光学聚酯薄膜中，所述粘接改性层间的摩擦系数小于O. 7，并且静摩擦系数μ s与动摩擦系数μ d之差为0.18以下。上述光学聚酯薄膜中，所述粒子的平均粒径为20 100 nm。
·
上述光学聚酯薄膜中，所述粒子是二氧化硅、高岭土、三氧化二铝、二氧化钛、交联聚苯乙烯或聚甲基丙烯酸甲酯中的一种或几种。上述光学聚酯薄膜中，所述粘合剂是聚酯树脂、聚氨酯树脂、聚丙烯酸酯树脂、环氧树脂或聚亚酰胺树脂中的一种或几种。与现有技术相比，本发明具有以下优点；
I.本发明所述基膜中不添加惰性粒子，保证了光学薄膜的高透明性。2.本发明通过调整粘接改性层的厚度、粒子的含量和突出于粘接改性层表面的粒子的面积占粘接改性层的表面积，一方面使薄膜具有良好的粘接性，另一方面也保证了薄膜的高透明性、良好的抗粘连性；并通过控制粘接改性层间的摩擦系数、静摩擦系数(μ s)和动摩擦系数(μ d)之差(Λ μ )，较好地解决了因粒子的脱落而造成工序污染，满足了薄膜的再加工性的要求。3.本发明提供的光学聚酯薄膜，适用于IXD显示装置领域和IMD膜内装饰加工等高端膜材料领域。
可以在20 380 μ m范围根据使用用途的规格任意地选择，优选50 350 μ m,进一步优选75 300 μ m,特别优选100 250 μ m。本发明所述粘接改性层，由含有粘合剂和粒子的涂布液涂覆在上述基膜的至少一面固化而得。粘合剂作为粘接改性层的成膜物质，可以是溶剂型的，也可以是水性的，优选水性的，特别优选水性的粘合剂分散体乳液。适合本发明的粘合剂可选自偏氯乙烯树脂、环氧树脂、聚亚酰胺树脂、聚酯树脂、聚丙烯酸树脂、聚氨酯树脂，聚酯改性丙烯酸酯等中的一种或几种，优选聚酯树脂、聚氨酯树脂和聚丙烯酸树脂。聚酯树脂为选自丁二酸、戊二酸、己二酸、庚二酸、对本二甲酸、间苯二甲酸、四氢邻苯二甲酸、六氢间苯二甲酸、1，2-环己烷二甲酸、1，2-环己烷二甲酸等的多元酸，与选自乙二醇、丙二醇、二乙二醇、二丙二醇、聚四亚甲基二醇、1，4_环己烷二甲醇、丙三醇、三羟甲基丙烷、三羟甲基乙烷等的多元醇缩聚而成。聚氨酯为选自甲苯二异氰酸酯、4，4' -二苯基甲烷二异氰酸酯、六亚甲基二异氰酸酯、异佛尔酮二异氰酸酯、苯二亚甲基二异氰酸酯、4，4' - 二环己基甲烷二异氰酸酯、环己烷二亚甲基二异氰酸酯、四甲基苯二亚甲基二异氰酸酯等的异氰酸酯单体，与聚环氧乙烷二醇、聚环氧丙烷二醇、聚四氢呋喃二醇、聚己二酸乙二醇酯二醇、聚己二酸_1，4 丁二醇酯二醇、聚己二酸己二醇酯二醇、聚己内酯二醇、聚碳酸酯二醇等的多元醇低聚物反应而成。丙烯酸树脂为选自丙烯酸甲酯、丙烯酸乙酯、丙烯酸正丁酯、丙烯酸环己酯、甲基丙烯 酸甲酯、甲基丙烯酸乙酯、甲基丙烯酸正丁酯、甲基丙烯酸-2-乙基己酯、2 —羟乙基丙烯酸酯、丙烯酰胺等的共聚物。上述树脂可以单独使用，也通过组合不同种类的树脂以获得较好的粘接性，例如，作为硬涂层基材时，由于聚酯树脂对聚酯类基膜的粘接性优良，聚氨酯与硬涂层的粘接性优良，优选聚酯树脂和聚氨酯树脂组合作为粘合剂；而聚丙烯酸树脂与增亮涂层有较好的粘接性，却与聚酯类基膜粘接性差，因此作为增亮膜基材时，优选聚酯树脂和聚丙烯酸树脂作为粘合剂。粘接改性层中的粒子可以为无机颗粒或有机颗粒，具体可以选自二氧化硅、碳酸钙、高岭土、三氧化二铝、二氧化钛、聚苯乙烯、聚甲基丙烯酸甲酯中的一种或几种，优选二氧化硅、改性聚甲基丙烯酸甲酯，特别优选胶态二氧化硅、聚甲基丙烯酸甲酯的分散体乳液。粘接改性层中粒子的平均粒径为20 IOOnm,进一步优选40 80nm。如果平均粒径小于20nm，则因粒子的粒径太小，很难获得抗粘连性；如果平均直径大于lOOnm，则因粒径过大，不仅会影响部分光学性能，而且在薄膜制程和再加工过程中已从基材膜表面脱落造成工序污染，影响后续使用。粒子可以是单一粒径，也可以是不同粒径粒子的组合。粒子的形状没有特别限制，从改善爽滑性的角度，优选接近球状的粒子。上述粒子的平均粒径是用高分辨投射电子显微镜(TEM)在15万倍的倍率下对粒子拍摄照片，测定200 500个粒子的大径，以其平均值为平均粒径。粘接改性层中的粒子占粘接改性层固体成分的5 %以下，优选3 %以下，更优选1%以下。本发明可以通过控制涂布液的固体成分含量和涂布量，使粘接改性层的厚度小于IOOnm,优选30 90nm。若厚度太小，不仅粘接改性层的粘接性变差，而且粒子在膜的表面易脱落而造成工序污染，影响后续使用；若厚度太大，则经过涂布后粒子会被部分掩埋，粒子突出在基材膜表面的面积减少，不利于膜层间的爽滑，影响薄膜的抗粘连性和抗划伤性。