盘锦石化聚丙烯HJ8015高刚性均聚

金刚石具有高硬度，高弹性模量，良好的导热性能与化学稳定性，以及其低摩擦系数，耐腐蚀等优点，使其成为现代机械加工中较为理想的涂层材料。目前制备金刚石薄膜制备方法主要有化学气相沉积(CVD)和高温高压合成两种方法。其中金刚石薄膜的CVD法又主要分为微波等离子体化学气相沉积(MPCVD)和热辅助化学气相沉积(HFCVD)两种。但模拟天然金刚石生成环境的高温高压法会限制薄膜大小和质量；当下的HFCVD技术虽然可以较快地制备出大面积、高均匀度的金刚石薄膜，但所含杂质较高；现较为成熟的MPCVD装置可以制备出高质量、较大面积的金刚石薄膜，但MPCVD法制备的金刚石薄膜仍然具有晶粒尺寸较大的问题。

随光电行业的迅速发展，光电领域对无色透明且具有良好耐热的透明聚酰亚胺薄膜的需求越来越大。例如，在柔性amoled的制程过程中，柔性树脂基膜要能耐受300℃以上的高温，这个温度远高于常见光学薄膜(pet、pen、聚碳酸酯等)的使用温度，因此无色透明聚酰亚胺薄膜在学术领域和工程领域获得了广泛的关注。为改善聚酰亚胺树脂的透明性，通常可以引入脂环结构或含氟基团。脂环结构的引入往往会导致聚酰亚胺树脂的热稳定性降低，从而使所得聚酰亚胺树脂使用温度降低。

制备无色透明聚酰亚胺薄膜，将上述混合均匀的聚酰胺酸溶液经过真空脱泡后流延至钢带或者玻璃基材上，并在干燥惰性气体的保护下采用远红外加热的方式，具体是先在100-120℃保持10-20min，然后依次在140-160℃保持10-20min，在180-220℃保持10-20min，在220-280℃保持10-20min，在320-380℃保持10-20min，在380-400℃保持5-10min，经拉伸亚胺化得到聚酰亚胺薄膜。