PP 燕山石化聚丙烯B1101

提供一种高质量二维钙钛矿薄膜的制备方法，解决上述背景技术中提出的问题，以25％dmf占比的二甲基甲酰胺加二甲基亚砜混合液为溶剂，50-150℃为基底预热温度，80-130℃为退火温度，所得钙钛矿薄膜致密、均匀、光泽、结晶度好，在光电领域具有良好的应用前景。

本发明提供了一种高质量二维钙钛矿薄膜的制备方法，采用碘化铅、碘化铵盐为原料，二甲基甲酰胺与二甲基亚砜为混合溶剂，通过hot-casting法，将旋涂了petdot：pss的基底预热后立即旋涂钙钛矿前驱体溶液，退火后，得到致密、均匀、光泽完全覆盖的高质量二维钙钛矿薄膜，所述的二维钙钛矿薄膜化学组成为(ba)2(ma)3pb4i13，其中ba为正丁胺阳离子。

将(1)中加热的涂有空穴传输层pedot：pss的导电基底迅速转移到旋涂仪上，移取(2)中温度恒定后的前驱体溶液滴于基底上立即进行旋涂，并将旋涂好的片子置于热台上退火得到致密、均匀、光泽完全覆盖的高质量二维钙钛矿薄膜。

1、本发明通过结合hot-casting技术及溶剂工程，提高了钙钛矿的结晶性，得到了性能较好的高质量二维钙钛矿薄膜，进而提升了钙钛矿太阳能电池的光电性能及效率。

2、本发明相比于常见的两步法及一步法中的反溶剂制备法，制备周期短、工艺简单、不需要冲反溶剂，可通过控制溶剂比例及基底预热温度调节二维钙钛矿薄膜的结晶取向，晶粒尺寸大小，及薄膜形貌。所制得二维钙钛矿薄膜具有较好的湿稳定性、高效，在光电领域具有较好的应用前景，对钙钛矿太阳能电池走向产业用具有极大的应用前景及商业价值。

将fto玻璃基底依次用光学洗涤剂、乙醇、丙酮、异丙醇、乙醇超声清洗15分钟，用氮气吹干。经紫外-臭氧处理后，将pedot：pss旋涂于fto基底上，于热台上150℃烘烤10min后取出，得到厚度约50nm的空穴传输层。将bai、mai、pbi2以摩尔比4:3:2溶解于混合溶剂中，搅拌3h，获得前驱体溶液。采用hot-casting方法，将旋涂有空穴传输层的基底90℃加热8min后迅速将其转移至旋涂仪旋涂前驱体溶液，转速为4000rpm时间15s，然后90℃退火8min，得到具有不同相的二维钙钛矿薄膜。

塑料薄膜在整个塑料包装草料中具有十分重要的地位，是塑料包装材料中使用为广泛的一种。塑料薄膜制品已经广泛地应用在生活的各个领域，其中塑料薄膜包装袋已成为一种主要的薄膜包装制品。塑料薄膜包装袋是塑料薄膜经过热合加工而制成。热合是利用电加热、高频加热或超声波等方式对薄膜热合部位进行处理，使其变为熔融粘流状态，并在该部分施加一定的外力，使热合部位的两层薄膜融合在一起达到一定强度的封合方式。密封良好的包装袋对其内装物具有重要的保护作用，但往往在热封中，其容易受到灰尘等的影响，且单靠压力将其封合，往往会产生气泡褶皱等，影响封合强度。

sio2薄膜材料是光学薄膜领域内重要的低折射率材料之一，具有较低的吸收、无定形结构、高热稳定性和耐腐蚀等特性，被广泛应用于各类光学多层薄膜的设计，如减反膜、高反膜、分光膜和滤光膜等。sio2薄膜的制备方法有热蒸发、离子辅助、离子束溅射、磁控溅射、溶胶-凝胶、pecvd、原子层沉积和热氧化等方式。折射率与消光系数是表征薄膜材料的重要的参数之一，是多层膜设计和应用的关键参数。sio2薄膜的光学常数是光学多层膜设计的关键基础数据，由于不同制备工艺的sio2薄膜具有不同的光学常数，因此光学常数的测量是sio2薄膜特性表征的重要工作之一。

目前，可用于光学常数测量的方法较多，主要有反射光谱/透射光谱极值法、反射光谱/透射光谱的反演计算法、反射椭圆偏振反演计算法，色散傅里叶变换光谱法、衰减全反射法、光声法、光热法、布里渊散射法等。

各种方法对于折射率的表征已经毫无疑问，已经能够满足人们对折射率测试的需求。sio2薄膜的消光系数也与制备工艺和后处理方式相关，人们对sio2薄膜的制备已经取得了大量的成就，尤其是在消光系数控制方面，在薄膜制备过程中除了控制薄膜生长过程的杂质和缺陷以外，化学计量比的控制尤为重要。从目前发表的大量文献来看，sio2薄膜的化学计量比已经达到了1:2的水平，其消光系数可以达到5×10-6，但是仍不能达到理想熔融石英的消光系数水平。这不能说明目前sio2薄膜化学计量比的表征手段问题，只能说明化学计量比缺陷的比例较低。2013年，sarcina等人研究了质子辐照窄带滤光片(tio2/sio2)的研究，发生了波长漂移和透过率下降的现象，他们认为sio2薄膜在辐照下发生了变化，损伤层为sio2和sio的混合物质，并通过对熔融石英的辐照和仿真实验验证了这一点。因此，我们可以假设sio2薄膜的消光系数是由于sio2中含有微量的sio所引起的，宏观上表现为sio2薄膜的折射率和弱的消光系数。因此，如何计算二氧化硅光学薄膜消光系数，成为了亟待解决的技术问题。

真空蒸镀技术是将靶材放置于高真空环境中加热，待其蒸发为气态后逐渐沉积到基底上形成薄膜。该方法操作简单，制备的薄膜纯度高、致密性好，表面平整。常规的x射线光电子能谱(xps)分析只能检测样品表面10nm以内的物种受x射线激发产生的光电子，如需获得样品表面深度大于10nm处的元素及其化学态相关信息，则需要结合离子刻蚀手段将样品表面进行物理剥离后，再进行xps测试。在进行薄膜材料深层分析时，仪器仅能给出针对某种标准物质的参考离子溅射速率。然而实际测试中，由于不同样品和材料的物理性质差别较大，实际的溅射速率与标准物质的参考值相差巨大，很难得到真实的刻蚀深度。