HDPE 抚顺石化聚乙烯RP100N

提供一种超低反射率的光学薄膜设计与制造方法，通过由多个m层与h层交替堆叠设置的中层膜以及外层膜来组成光学薄膜，在可见光波长范围内，其反射率比普通增透膜低一个级别，不仅能极大限度减少可见光在介质表面的反射率，减轻鬼影的影响，还能使可见光在介质表面的透过率高达99.7％，一种超低反射率的光学薄膜，包括有玻璃基板，所述玻璃基板一侧设置有中层膜，所述中层膜包括有m层和h层，且二者数量各设置有六层，所述中层膜上的m层与h层交替堆叠设置，所述中层膜远离玻璃基板的一端设置有外层膜。

薄膜的非晶硅/晶体硅异质结太阳能电池(hetero-junctionwithintrinsicthin-layer，以下简称hit)的光电转换效率已高达26.6％，且由于hit电池具备低成本、低温工艺、高稳定性、高转换效率、高开路电压、良好的钝化效果、的温度特性等优势，在光伏电池产业领域有着广大的前景。但是，国内研究机构制备的hit电池的转换效率普遍较低。薄膜作为hit太阳电池核心薄层，本质作用是钝化单晶硅表面的悬挂键，从而降低界面区域的缺陷态密度，其性能是影响hit电池高性能的关键性因素之一。

而光学元件的形变会对激光的光束质量产生较大的影响，从而影响整个激光系统的性能。在光学薄膜的应用中，由于不同光谱特性要求膜系的膜层数、单层膜厚度以及总厚度均不相同，因此采用离子束溅射法制备的多层薄膜应力大小不一。目前控制薄膜应力的方法有很多种：1)镜面预处理方面，该方法是针对镀膜前的抛光阶段而言，根据所制备薄膜的应力特性，对基片表面抛出相反的表面面形精度，在应力的作用下镜面会变平；2)通过改变工艺参数控制应力。镀膜过程中工艺参数的改变会直接影响薄膜中的终残余应力水平，通过调整镀膜时的基片温度、工作气压、沉积速率等工艺参数可以控制薄膜中应力的大小，甚至会改变应力的性质；3)热退火处理。在低温退火时，原子主要靠晶格振动而相互交换能量，处于畸变位置的一些原子，可能恢复到正常状态。因而薄膜内应力有所减小；4)通过添加亚层控制多层膜应力。在薄膜与基片之间预镀一层应力性质相反的膜层，从而控制应力。尽管采用上述的方法，薄膜的残余应力仍维持很高的水平，因此需要寻找利用退火热处理方法和应力补偿方法相结合的方式对离子束溅射技术制备的薄膜进行应力调控的新工艺。

一种薄膜应力的消除方法。该方法采用退火热处理方式和退火热处理后压应力层和张应力层交替沉积的方式对多层薄膜应力进行调控，经过一系列研究，终得到光学性能良好、低应力状态的多层膜系，得到的光学元件光学性能满足应用要求，元件变形量极低。