HDPE 抚顺石化聚乙烯100N

因而薄膜内应力有所减小；经过退火热处理之后，低折射率薄膜应力仍维持在原应力状态，而高折射薄膜的应力性质会发生改变，与低折射率薄膜的应力性质相反，产生的作用力会互相抵消，采用退火热处理方式和退火热处理后压应力层和张应力层交替沉积的方式相结合对离子束溅射技术制备的多层薄膜进行应力调控，相比于镀膜前，光学元件面形精度在退火热处理后不会产生变化或只产生微小变化，实现了薄膜应力的控制，解决了光学元件保形困难的问题。

单层膜应力特性求解，其具体过程为:基片处理；在镀膜前，测量基片表面的面形精度，采用双离子束溅射的方法于基片表面制备高折射率和/或低折射率薄膜，调节镀膜工艺参数，其中包括离子源束流、束压、沉积温度，氧流量等，在镀膜完成后，再次测量基片表面的面形精度，计算出镀膜前后基片的面形变化，带入stoney公式，求解单层膜应力。

1.将尺寸为φ25.4×5mm的jgs1基片面形精度进行表征，经过清洗干燥后放入离子束溅射镀膜机，设定单层膜厚度为500nm，镀膜材料为ta2o5。薄膜沉积条件为：基片温度为80℃，采用反应溅射的方法，ta靶材纯度99.99％，真空抽至8×10-7torr。

采用离子束溅射的方法在光学基片上分别制备了ta2o5和sio2单层膜，采用退火热处理的方式对单层薄膜应力特性的变化进行研究，再此基础上，结合单层膜的应力特性变化规律，采用压应力和拉应力膜层交替沉积补偿应力的方式，设计并制备得到光学性能良好且低应力状态的光学薄膜，该薄膜可应用于强光光学领域，得到的光学元件面形精度变化量小，有效提高了激光光束质量。本发明可以为光学元件保形的实验研究或工业生产提供样品。

模内镶件注塑，它的优点是生产出来的塑料件外观漂亮，可以有多种颜色，多种花纹，较喷涂工艺的外壳耐磨，亮度高，立体感强，可转印较复杂的图案。它们的工艺过程总体上是将已印刷好图案的膜片放入金属模具内，将成形用的树脂注入金属模内与膜片接合，使印刷有图案的膜片与树脂形成一体后固化成产品；其工艺显著的特点是：表面是一层硬化的透明薄膜，中间是印刷图案层，背面是塑胶层，由于油墨夹在中间，可使产品防止表面被刮花和耐摩擦，并可长期保持颜色的鲜明不易退色。随着消费者对面板的要求，要求面板除了带有纹理外还需要半透效果，为了生产商就在透明薄膜作uv纹理转印后再在透明薄膜的背面印刷半透油墨来实现半透带纹理的效果，然后，半透油墨印刷在薄膜印刷时会有颗粒物存在，也会存在印刷痕迹，这样光线从薄膜那透出时会很明显看出，从而无法满足光学显示所需的较高场合，效果较差。