中天合创聚丙烯T30S粉料高熔指注塑

粘接改性层中的粒子占粘接改性层固体成分的5 %以下，优选3 %以下，更优选1%以下。本发明可以通过控制涂布液的固体成分含量和涂布量，使粘接改性层的厚度小于IOOnm,优选30 90nm。若厚度太小，不仅粘接改性层的粘接性变差，而且粒子在膜的表面易脱落而造成工序污染，影响后续使用；若厚度太大，则经过涂布后粒子会被部分掩埋，粒子突出在基材膜表面的面积减少，不利于膜层间的爽滑，影响薄膜的抗粘连性和抗划伤性。本发明中的涂布液的固体成分含量可以控制在5 10%的范围，涂布量可以选择在4 14g/m2 范围。

聚酯薄膜涂覆粘接改性层(on-line coating),也可以涂覆在非伸聚酯薄膜或单轴拉伸之后进行双轴拉伸(in-line coating);本发明优选后面的在线涂布方法。本发明所述光学聚酯薄膜的制造方法优选以下步骤

1.将基膜原料分干燥后，送入相应的挤出系统熔融挤出，熔融挤出温度为260_295°C；

2.将基膜熔体经模头在转动的冷却辊上得到未取向的铸塑厚片；

3.将冷却后的厚片加热到80-120°C，纵向拉伸3.0-3. 8倍，得到单轴取向聚酯薄膜；

4.将上述粘接改性层液涂在经纵向拉伸后膜片的一个面或两个面上；

5.将涂好粘接改性层的膜片经90-180°C加热干燥后，横向拉伸3.0-4. O倍；

6.将拉伸后的薄膜经180-250°C热定型，冷却后收卷，得到光学用粘接改性基材膜。

而聚丙烯酸树脂与增亮涂层有较好的粘接性，却与聚酯类基膜粘接性差，因此作为增亮膜基材时，优选聚酯树脂和聚丙烯酸树脂作为粘合剂。粘接改性层中的粒子可以为无机颗粒或有机颗粒，具体可以选自二氧化硅、碳酸钙、高岭土、三氧化二铝、二氧化钛、聚苯乙烯、聚甲基丙烯酸甲酯中的一种或几种，优选二氧化硅、改性聚甲基丙烯酸甲酯，特别优选胶态二氧化硅、聚甲基丙烯酸甲酯的分散体乳液。粘接改性层中粒子的平均粒径为20 IOOnm,进一步优选40 80nm。