独山子石化W725EF聚丙烯

在高功率激光薄膜制备领域，实现低缺陷低吸收的终端光学薄膜元件制备，可以提高该薄膜元件在紫外纳秒波段的抗激光损伤性能，从而有效提升惯性约束核聚变装置中激光系统的输出功率和使用寿命。在近二十年以来，研究者分别围绕薄膜材料、膜系、制备工艺等方面出发去提升薄膜元件的抗损伤性能，并大力发展缺陷表征探测技术来实现低缺陷低吸收薄膜制备。从现有研究成果来看，通过制备高带隙和低吸收低缺陷的高折射率薄膜材料，是获得高阈值薄膜元件的有效途径。

氧化铝薄膜材料是一种极具潜力的高折射率氧化物薄膜材料，与当前成熟的氧化铪薄膜材料相比带隙更高，且存在多项研究报道表明基于氧化铝高折射率薄膜材料的光学薄膜具有优越的抗损伤性能。电子束直接蒸发作为传统的高功率氧化物薄膜制备方法，然而，在制备氧化铝薄膜材料时，所制备的氧化铝薄膜材料存在节瘤喷溅和紫外吸收较强的问题，远未达到氧化铝薄膜材料抗损伤性能应有的水平。

1)浸泡金属al颗粒在浓度8％和温度为60℃的氢氧化钠水溶液中，直至金属al颗粒表面冒出大量气泡，然后充入常温去离子水反复稀释冲洗、真空冷风阴干去除表面水汽，随后对金属al颗粒真空密封保存；

2)将提纯的金属al颗粒放入坩埚或坩埚套中，反复层铺预熔，通过调整光斑大小和扫描路径使得每次熔融膜料表面平整且无孔隙；

3)采用预熔金属al块料进行反应蒸发，反应气体为纯度大于99.999％的氧气，基底为超声清洗的熔石英基片，沉积本底真空为9×10-4pa，沉积温度为200℃，氧分压的监控和控制分别采用真空计和流量计完成，薄膜厚度和沉积速率的监控采用晶体震荡厚度监控仪控制。薄膜镀制完成后，经直接降温后在温度低于80℃时慢放气取出。