HDPE齐鲁石化聚乙烯F3306S

光刻胶的成膜材料为各类光刻胶树脂，如酚醛树脂、甲基丙烯酸树脂等。光刻胶树脂具有耐高温，耐腐蚀等优异性能。随着元器件的小型化，需要制作的光刻图形越来越小，对光刻胶树脂的性能要求也越来越高，其中，分辨率和明暗度为光刻胶膜的主要技术参数。在光刻工艺中，需要经过涂膜、曝光、显影等流程，一般在涂膜后会对涂膜性能评估，考察光刻胶涂膜的疏水性和粘附性。

光刻胶疏水性树脂具有优异的拒水拒油性能，能赋予光刻胶树脂的一定的疏水性，因而在涂层领域广泛应用。为了提高光刻胶的疏水性，可在涂膜时加入一定比例的具有疏水功能的光刻胶树脂。光刻胶树脂涂膜工艺通常将具有疏水性能的树脂与普通的不具备疏水性能的光刻胶树脂按一定比例混合溶解后进行涂膜，这种涂膜方式在一定程度上提高光刻胶树脂的疏水性，但是由于具有疏水功能的树脂与普通光刻胶树脂存在相容性差，混合溶解不均等问题，得到的光刻胶膜的疏水性能差。

开了一种基于原子层沉积技术的氮化钽薄膜的制作工艺，通过增加nh3等离子体处理基底、ar等离子体处理氮化钽薄层及将旋转基底的步骤，用来减少氮化钽薄膜中的孔洞；但是该专利未对薄膜的硬度进行提升及改进。专利cn 112562946 a提供了一种氮化钽薄膜电阻及其制备方法，采用磁控溅射法形成依次堆叠的氮化钽层及钝化层的复合结构，从而通过钝化层可对氮化钽层进行保护；然而该专利制备的薄膜在实际运用中可能存在界面结合较差的问题，由于晶相结构的不协调可能会降低保护层的使用寿命。

本发明所解决的技术问题是：(1)增强氮化钽薄膜的抗氧化性能、耐腐蚀性能，提升薄膜的硬度；(2)优化薄膜层间界面的结合性能。
5.氮化钽是一种具有特殊性质的材料，具备高熔点、高硬度，有一定化学稳定性，能够抵抗水汽的侵蚀，因此被广泛应用于制备片状电阻。不同晶体构型的氮化钽性质差别巨大，如ε-氮化钽为黑色的六方结晶，δ-氮化钽为黄绿色的立方结晶；ε-氮化钽相比于δ-氮化钽具备更高的熔点，而后者的硬度可达3200kg/mm2，远高于ε-氮化钽的1100kg/mm2。